肖特基二極管是以其發(fā)明人肖特基博士(Schottky)命名的,SBD是肖特基勢壘二極管(SchottkyBarrierDiode,縮寫成SBD)的簡稱。SBD不是利用P型半導(dǎo)體與N型半導(dǎo)體接觸形成PN結(jié)原理制作的,而是利用金屬與半導(dǎo)體接觸形成的金屬-半導(dǎo)體結(jié)原理制作的。因此,SBD也稱為金屬-半導(dǎo)體(接觸)二極管或表面勢壘二極管,它是一種熱載流子二極管。
原理
肖特基二極管是貴金屬(金、銀、鋁、鉑等)A為正極,以N型半導(dǎo)體B為負(fù)極,利用二者接觸面上形成的勢壘具有整流特性而制成的金屬-半導(dǎo)體器件。因?yàn)镹型半導(dǎo)體中存在著大量的電子,貴金屬中僅有極少量的自由電子,所以電子便從濃度高的B中向濃度低的A中擴(kuò)散。顯然,金屬A中沒有空穴,也就不存在空穴自A向B的擴(kuò)散運(yùn)動。隨著電子不斷從B擴(kuò)散到A,B表面電子濃度逐漸降低,表面電中性被破壞,于是就形成勢壘,其電場方向?yàn)锽→A。但在該電場作用之下,A中的電子也會產(chǎn)生從A→B的漂移運(yùn)動,從而消弱了由于擴(kuò)散運(yùn)動而形成的電場。當(dāng)建立起一定寬度的空間電荷區(qū)后,電場引起的電子漂移運(yùn)動和濃度不同引起的電子擴(kuò)散運(yùn)動達(dá)到相對的平衡,便形成了肖特基勢壘。
典型的肖特基整流管的內(nèi)部電路結(jié)構(gòu)是以N型半導(dǎo)體為基片,在上面形成用砷作摻雜劑的N-外延層。陽極使用鉬或鋁等材料制成阻檔層。用二氧化硅(SiO2)來消除邊緣區(qū)域的電場,提高管子的耐壓值。N型基片具有很小的通態(tài)電阻,其摻雜濃度較H-層要高100%倍。在基片下邊形成N+陰極層,其作用是減小陰極的接觸電阻。通過調(diào)整結(jié)構(gòu)參數(shù),N型基片和陽極金屬之間便形成肖特基勢壘,如圖所示。當(dāng)在肖特基勢壘兩端加上正向偏壓(陽極金屬接電源正極,N型基片接電源負(fù)極)時(shí),肖特基勢壘層變窄,其內(nèi)阻變小;反之,若在肖特基勢壘兩端加上反向偏壓時(shí),肖特基勢壘層則變寬,其內(nèi)阻變大。
綜上所述,肖特基整流管的結(jié)構(gòu)原理與PN結(jié)整流管有很大的區(qū)別通常將PN結(jié)整流管稱作結(jié)整流管,而把金屬-半導(dǎo)管整流管叫作肖特基整流管,采用硅平面工藝制造的鋁硅肖特基二極管也已問世,這不僅可節(jié)省貴金屬,大幅度降低成本,還改善了參數(shù)的一致性。
結(jié)構(gòu)
新型高壓SBD的結(jié)構(gòu)和材料與傳統(tǒng)SBD是有區(qū)別的。傳統(tǒng)SBD是通過金屬與半導(dǎo)體接觸而構(gòu)成。金屬材料可選用鋁、金、鉬、鎳和鈦等,半導(dǎo)體通常為硅(Si)或砷化鎵(GaAs)。由于電子比空穴遷移率大,為獲得良好的頻率特性,故選用N型半導(dǎo)體材料作為基片。為了減小SBD的結(jié)電容,提高反向擊穿電壓,同時(shí)又不使串聯(lián)電阻過大,通常是在N+襯底上外延一高阻N-薄層。其結(jié)構(gòu)示圖如圖1(a),圖形符號和等效電路分別如圖1(b)和圖1(c)所示。在圖1(c)中,CP是管殼并聯(lián)電容,LS是引線電感,RS是包括半導(dǎo)體體電阻和引線電阻在內(nèi)的串聯(lián)電阻,Cj和Rj分別為結(jié)電容和結(jié)電阻(均為偏流、偏壓的函數(shù))。 大家知道,金屬導(dǎo)體內(nèi)部有大量的導(dǎo)電電子。當(dāng)金屬與半導(dǎo)體接觸(二者距離只有原子大小的數(shù)量級)時(shí),金屬的費(fèi)米能級低于半導(dǎo)體的費(fèi)米能級。在金屬內(nèi)部和半導(dǎo)體導(dǎo)帶相對應(yīng)的分能級上,電子密度小于半導(dǎo)體導(dǎo)帶的電子密度。因此,在二者接觸后,電子會從半導(dǎo)體向金屬擴(kuò)散,從而使金屬帶上負(fù)電荷,半導(dǎo)體帶正電荷。由于金屬是理想的導(dǎo)體,負(fù)電荷只分布在表面為原子大小的一個薄層之內(nèi)。而對于N型半導(dǎo)體來說,失去電子的施主雜質(zhì)原子成為正離子,則分布在較大的厚度之中。電子從半導(dǎo)體向金屬擴(kuò)散運(yùn)動的結(jié)果,形成空間電荷區(qū)、自建電場和勢壘,并且耗盡層只在N型半導(dǎo)體一邊(勢壘區(qū)全部落在半導(dǎo)體一側(cè))。勢壘區(qū)中自建電場方向由N型區(qū)指向金屬,隨熱電子發(fā)射自建場增加,與擴(kuò)散電流方向相反的漂移電流增大,最終達(dá)到動態(tài)平衡,在金屬與半導(dǎo)體之間形成一個接觸勢壘,這就是肖特基勢壘。
在外加電壓為零時(shí),電子的擴(kuò)散電流與反向的漂移電流相等,達(dá)到動態(tài)平衡。在加正向偏壓(即金屬加正電壓,半導(dǎo)體加負(fù)電壓)時(shí),自建場削弱,半導(dǎo)體一側(cè)勢壘降低,于是形成從金屬到半導(dǎo)體的正向電流。當(dāng)加反向偏壓時(shí),自建場增強(qiáng),勢壘高度增加,形成由半導(dǎo)體到金屬的較小反向電流。因此,SBD與PN結(jié)二極管一樣,是一種具有單向?qū)щ娦缘姆蔷€性器件。
檢測
肖特基(Schottky)二極管也稱肖特基勢壘二極管(簡稱SBD),它是一種低功耗、超高速半導(dǎo)體器件,廣泛應(yīng)用于開關(guān)電源、變頻器、驅(qū)動器等電路,作高頻、低壓、大電流整流二極管、續(xù)流二極管、保護(hù)二極管使用,或在微波通信等電路中作整流二極管、小信號檢波二極管使用。
性能比較
下表列出了肖特基二極管和超快恢復(fù)二極管、快恢復(fù)二極管、硅高頻整流二極管、硅高速開關(guān)二極管的性能比較。由表可見,硅高速開關(guān)二極管的trr雖極低,但平均整流電流很小,不能作大電流整流用。
檢測方法
下面通過一個實(shí)例來介紹檢測肖特基二極管的方法。檢測內(nèi)容包括:①識別電極;②檢查管子的單向?qū)щ娦裕虎蹨y正向?qū)航礦F;④測量反向擊穿電壓VBR。
被測管為B82-004型肖特基管,共有三個管腳,將管腳按照正面(字面朝向人)從左至右順序編上序號①、②、③。選擇500型萬用表的R×1檔進(jìn)行測量,全部數(shù)據(jù)整理成下表:
肖特基二極管測試結(jié)論:
第一,根據(jù)①—②、③—④間均可測出正向電阻,判定被測管為共陰對管,①、③腳為兩個陽極,②腳為公共陰極。
第二,因①—②、③—②之間的正向電阻只幾歐姆,而反向電阻為無窮大,故具有單向?qū)щ娦浴?/p>
第三,內(nèi)部兩只肖特基二極管的正向?qū)▔航捣謩e為0.315V、0.33V,均低于手冊中給定的最大允許值VFM(0.55V)。
另外使用ZC 25-3型兆歐表和500型萬用表的250VDC檔測出,內(nèi)部兩管的反向擊穿電壓VBR依次為140V、135V。查手冊,B82-004的最高反向工作電壓(即反向峰值電壓)VBR=40V。表明留有較高的安全系數(shù)。
小電流時(shí)是0.1-0.2V。
流過額定電流時(shí)就大了,看數(shù)據(jù)手冊可知:
1A 3A
1N5817(20V/1A) 0.45V 0.75V
1N5818(30V/1A) 0.55V 0.875V
1N5819(40V/1A) 0.6V 0.9V
1、肖特基二極管壓降的意義
肖特基二極管最大的優(yōu)點(diǎn)是阻抗低、正向壓降小、恢復(fù)速度快,所以常用于高頻大電流整流和降電保護(hù)線路。
2、肖特基二極管壓降的常用測試方法
用“DC POWER SUPPLY”儀(恒流穩(wěn)壓直流電流)測試:先給小電壓以便有電流通過肖特基二極管,再慢慢調(diào)大電流達(dá)到被測肖特基二極管的額定電流,待電壓值穩(wěn)定后再讀數(shù),穩(wěn)定后的讀數(shù)就是額定電流的壓降。
為何是穩(wěn)定后的電壓讀數(shù)才是正確的壓降讀數(shù):肖特基二極管的阻抗不是固定的,而是隨溫度升高而變小的(非線性關(guān)系)。
當(dāng)有電流通過肖特基二極管時(shí),管芯會產(chǎn)生熱量,再通過管體散發(fā)出去,當(dāng)達(dá)到熱平衡時(shí)(管芯產(chǎn)生的熱量能及時(shí)散發(fā)出去),此時(shí)的阻抗也就是相對穩(wěn)定,這是能量守恒定律(P=I2R,P轉(zhuǎn)化為熱量)。如果直接用額定電流測試,初始讀數(shù)是偏高的,因?yàn)榇藭r(shí)的管芯處于常溫狀態(tài),阻抗最大,讀數(shù)會隨時(shí)間推移而逐步降低,就是因?yàn)樽杩闺S溫度升高而變小的原因。
3、肖特基二極管壓降的測試方法常見誤區(qū)
部分用戶因受測試儀器的限制而直接用萬用表測試,雖然萬用表有測試二極管的這一檔,但其輸出電流只有一兩個毫安,其測試的讀數(shù)并不是“內(nèi)阻”,而是在電流為毫安級時(shí)的壓降,并且,用這種方法測試每一批肖特基二極管壓降時(shí)顯示的讀數(shù)可能會偏差很大,肖特基二極管通常工作電流是安培級的,兩者相差千倍。
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